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基于原子層沉積(ALD)技術(shù)的微納器件制造等項目二期工程

西藏拉薩 全部類型 2025年05月16日
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施工許可(備案)信息
項目編號 **** 項目名稱 基于原子層沉積(ALD)技術(shù)的微納器件制造等項目二期工程
標(biāo)段編號 **** 標(biāo)段名稱 基于原子層沉積(ALD)技術(shù)的微納器件制造等項目二期工程
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中標(biāo)人名稱* 江蘇天億建設(shè)工程有限公司
建設(shè)地址* 江蘇無錫
建設(shè)規(guī)模* 建設(shè)面積:160164㎡
施工許可證編號
發(fā)證機(jī)關(guān) 發(fā)證日期
勘察單位 項目負(fù)責(zé)人
設(shè)計單位 項目負(fù)責(zé)人
施工單位 項目負(fù)責(zé)人
監(jiān)理單位 總監(jiān)理工程師
工程總承包單位 項目負(fù)責(zé)人
聯(lián)合體施工單位 項目負(fù)責(zé)人
備注
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