點擊登錄查看2025年1至12月政府采購意向-離軸射頻偏置磁控濺射 詳細情況
離軸射頻偏置磁控濺射 | |
項目所在采購意向: | 點擊登錄查看2025年1至12月政府采購意向 |
采購單位: | 點擊登錄查看 |
采購項目名稱: | 離軸射頻偏置磁控濺射 |
預算金額: | 500.000000萬元(人民幣) |
采購品目: | A****其他電工、電子生產設備 |
采購需求概況 : | 采購一臺離軸射頻偏置磁控濺射,用于200 nm及以下尺寸樣品的金屬、氧化物、氮化物薄膜材料的單層或多層沉積生長。濺射腔本底真空優(yōu)于5E-7 Pa;磁控濺射源共6個,包含2個離軸濺射源和4個共焦濺射源;樣品尺寸兼容2~4英寸。 |
預計采購時間: | 2025-02 |
備注: |
本次公開的采購意向是本單位政府采購工作的初步安排,具體采購項目情況以相關采購公告和采購文件為準。