濺射工藝設(shè)備

免費(fèi)樣品檢驗(yàn) 48小時(shí)發(fā)貨工廠直銷(xiāo)

￥300萬(wàn)-1000萬(wàn)

產(chǎn)品規(guī)格：磁控濺射、離子束濺射、離子束輔助沉積

公司所在地：重慶

產(chǎn)品庫(kù)存：現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū)：全國(guó)

其他說(shuō)明：

磁控濺射設(shè)備：用于通過(guò)濺射靶材材料上的原子或分子在基底表面上形成薄膜離子束濺射設(shè)備：使用離子源將靶材料濺射到基板上的沉積技術(shù) 離子束輔助沉積：將材料沉積到基材上，基材受到來(lái)自離子束源的離子轟擊

展開(kāi)

磁控濺射設(shè)備：用于通過(guò)濺射靶材材料上的原子或分子在基底表面上形成薄膜離子束濺射設(shè)備：使用離子源將靶材料濺射到基板上的沉積技術(shù) 離子束輔助沉積：將材料沉積到基材上，基材受到來(lái)自離子束源的離子轟擊收起