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感應耦合等離子化學氣相沉積

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300萬-1000萬

產(chǎn)品規(guī)格:沉積工藝、特定溫度范圍內(nèi)制備高質(zhì)量薄膜

公司所在地:重慶

產(chǎn)品庫存:現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū):全國

其他說明:

SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進的設備配置。

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SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先進的設備配置。收起

品牌:
SENTECH
型號:
SI 500D
功能:
沉積工藝、制備高質(zhì)量薄膜
用途范圍:
適用于器件的生產(chǎn)和研發(fā)應用
重慶眺...
重慶眺望科技有限公司
聯(lián)系人:眺望科技
主營業(yè)務:美國AJA磁控濺射,離子刻蝕、電子束蒸發(fā)等PVD設備,先進電鍍設備,ICP,PECVD,ALD,RIE等離子體工藝設備等,美國Film Sense多波長橢偏儀,ATL激光器以及徠卡LEICA光學顯微鏡
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